深圳反参透纯净水设备 一级反渗透设备

纯净水设备、高纯水设备、反渗透设备的优点 
1、占地空间小，省略了混床和再生装置。 
2、产水连续稳定，出水质量高，而混床在树脂临近失效时水质会变差。 
3、运行费用低，再生只耗电，不用酸碱，节省材料费用。 
4、环保效益显著，增加了操作的安全性。 
5、不需要酸碱化学试剂来再生(绿色环保)。 
6、与同类进口产品比，能耗下降30%左右，节约运行费用。 
7、EDI在线再生，*加盐系统。 
8、出水水质稳定一致。 
9、容易实现整体式的膜块排列。 
10、重量轻，结构紧凑。
纯净水设备、高纯水设备的应用领域 
      1、电厂化学水处理；
      2、电子、半导体、精密机械行业**纯水； 
      3、制药工业工艺用水； 
      4、精细化工、精尖学科用水； 
      5、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水； 
      6、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗； 
      7、其他行业所需的**纯水制备。

高纯水设备、**纯水设备简介 
      电去离子Electrodeionization，简称EDI，又称连续电解除盐技术，它科学地将电渗析技术和离子交换技术融为一体，通过阴、阳离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生，因此E水过程不需酸、碱化学药品再生即可连续制取高品质**纯水。
       半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、**大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、**纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

纯净水设备、高纯水设备和**纯水设备的技术参数 
产水量 
根据需求订制（0.5-300吨/时） 
原水源 
自来水或地下水（电导率小于400us/cm） 
产水水质 
电导率小于0.056us/cm(电阻率≥18MΩ/cm) 
设备功率 
5KW-800KW 
运行状态 
自动运行、定时反洗 
反洗频率 
随进水水质而变化（1～3天） 
化学清洗 
随膜材质及膜污染情况而定 
产品特点 
人机对话、运行稳定、水质可靠 
进水要求： 
   以下是保证 EDI 正常运行的条件。为了使系统运行效果更佳，系统设计时应适当提高这些条件。 
   ★给水：RO 纯水，一般水的电导率为 4-30us/cm。 
   ★PH：5.0-8.0(在此 PH 条件下，水硬度不能太高) 
   ★温度：5-35℃ 
   ★进水压力：为 4kg/cm2(60psi)，小为 1.5kg/cm2(25psi)。 
   注意：组件压力损失取决于流量和水温。 
   EDI 组件标准配置： 
   ★出水压力：浓水和电极水的出口压力必须低于产品的出口压力。 
   ★硬度（以 CaCO3 计）：为 1.0ppm，建议采用 0.1ppm。 
   ★**物：为 0.05ppm (TOC)。 
   ★氧化剂：为 0.05ppm（CL2），0.02ppm（03）建议两者都没有。 
   ★变价金属：为 0.01 ppm (Fe)。 
   ★二氧化硅：50-150ppb。 
   ★二氧化碳 CO2 的总量：二氧化碳含量和 PH 值将明显影响产品水电阻率。在大于10ppm 时，一般应在 EDI 设备前安装脱气装置。

纯净水设备、反渗透设备、高纯水工艺流程：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透 →PH调节→中间水箱→二级反渗透→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
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