纯净水处理设备

反渗透设备、水处理设备的处理方法
一、沉淀法：以大容积、低流速的自然沉淀方法对水预进行处理，如沉淀池。
二、混凝法：利用铁、铝、高分子等混凝剂，与水中的杂质通过絮凝和架桥作用生成大颗粒沉淀物，再通过其它设备，予以去除。
三、过滤法：将被 处理的水，流经装有特殊过滤材料的装置，截留水中杂质，予以去除。
四、软化法：采用化学药剂或阳离子交换树脂方法，使水中的钙、镁、铁离子去除。
五、消毒法：加入药剂或使用紫外线、臭氧等方法，消除水中的微生物、等。

纯净水设备、高纯水设备和**纯水设备的技术参数
产水量
根据需求订制（0.5-300吨/时）
原水源
自来水或地下水（电导率小于400us/cm）
产水水质
电导率小于0.056us/cm(电阻率≥18MΩ/cm)
设备功率
5KW-800KW
运行状态
自动运行、定时反洗
反洗频率
随进水水质而变化（1～3天）
化学清洗
随膜材质及膜污染情况而定
产品特点
人机对话、运行稳定、水质可靠
进水要求：
以下是保证 EDI 正常运行的条件。为了使系统运行效果更佳，系统设计时应适当提高这些条件。
★给水：RO 纯水，一般水的电导率为 4-30us/cm。
★PH：5.0-8.0(在此 PH 条件下，水硬度不能太高)
★温度：5-35℃
★进水压力：为 4kg/cm2(60psi)，小为 1.5kg/cm2(25psi)。
注意：组件压力损失取决于流量和水温。
EDI 组件标准配置：
★出水压力：浓水和电极水的出口压力必须低于产品的出口压力。
★硬度（以 CaCO3 计）：为 1.0ppm，建议采用 0.1ppm。
★**物：为 0.05ppm (TOC)。
★氧化剂：为 0.05ppm（CL2），0.02ppm（03）建议两者都没有。
★变价金属：为 0.01 ppm (Fe)。
★二氧化硅：50-150ppb。
★二氧化碳 CO2 的总量：二氧化碳含量和 PH 值将明显影响产品水电阻率。在大于10ppm 时，一般应在 EDI 设备前安装脱气装置。

高纯水设备、**纯水设备简介
电去离子Electrodeionization，简称EDI，又称连续电解除盐技术，它科学地将电渗析技术和离子交换技术融为一体，通过阴、阳离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生，因此E水过程不需酸、碱化学药品再生即可连续制取高品质**纯水。
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、**大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、**纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

反渗透设备、纯水机的原理：
反渗透是一种借助选择透过（半透过）性膜的功能，以压力为推动力的膜分离技术，膜元件由反渗透膜导流布和中心管等制作而成，将多根RO膜元件装入不锈钢耐压容器内，组成RO组件。本装置是脱盐系统的关键，成熟的工艺设计、合理的控制、操作及管理，直接决定着系统的正常、稳定运行。并关系到反渗透膜的使用寿命，经反渗透处理后的出水，去除了绝大部分无机盐和几乎所有的**物，微生物（、热源等）从而确保了本系统产品水的高质量、高品质。
完成预处理后的出水其出水由淤积密度指数SDI测试仪监测，当SDI值<4时，即可进入RO系统，由高压泵增压后进入反渗透系统，RO出水一部分（脱盐纯水）去储水箱，另一部分由管道汇集后成浓水（主要含有盐份、机械杂质、胶体、**物等）随小部分未透过水排入下水道。